CFD를 사용한 반도체 공정 장비 설계

온디맨드 웨비나 | 65 분

CFD 시뮬레이션에 기반한 반도체 공정 해석 방법론 및 사례 소개

CFD 시뮬레이션에 기반한 반도체 공정 해석 방법론 및 사례 소개

무어의 법칙을 지키기 위해, 많은 공정 엔지니어들이 밤낮을 가리지 않고 다양한 노력을 기울이고 있지만 예상과 달리 웨이퍼 당 가격은 오르고 있고, 테이프 아웃에서 실제 양산 단계에 다다르기 까지 기존에는 접하지 못했던 다양한 문제에 직면하고 있습니다. 이번 웨비나에서는 다양한 요구 사항을 만족하면서도 수율을 증대 시키기 위한 반도체 공정 장비 설계를 위해 CFD가 어떤 도움을 줄 수 있는지 방법론을 제시하고 관련된 사례들을 소개드리고자 합니다.

Simcenter STAR-CCM+는 Siemens Digital Industries Software의 CFD 기반 다중 물리학(Multi-Physics) 제품으로 Automotive, Aerospace & Defence에서부터 Electronics 및 Semiconductor 산업의 많은 고객분들이 성공적으로 사용하고 있습니다.

본 웨비나에서는 다음의 반도체 공정 장비 해석 사례들이 제공됩니다.

  1. CVD 공정 해석 방법론 및 사례 (CVD, PECVD)
  2. 습식 식각 공정 해석 방법론 및 사례 (Electro-chemistry)
  3. 액침 노광 공정 최적화 해석 방법론 및 사례 (VOF and Overset Motion)
  4. 스핀 코팅 해석 방법론 및 해석 사례
  5. 고진공 환경에서의 유동 균일화 해석 사례 (Showerhead Simulation)
  6. 공정 장비내 미세 입자 제어를 위한 해석 방법론 및 유사 해석 사례 소개

본 웨비나를 통해 반도체 공정 장비 최적화를 위한 CFD 기반의 해석 방법론에 대한 인사이트를 얻으시기를 기대합니다.

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