光近接効果補正

光近接効果補正 (OPC) は、回折やプロセス効果による画像誤差を補正するために広く使用されているフォトリソグラフィ増強技術です。OPCは主に半導体デバイスの製造に使用される技術です。光波長限界のために、シリコンウェハ上のエッチチング形状が本来の設計形状を維持できなくなると、OPC処理が必要です。

このコースでは、OPC技術の歴史と現状、数値最適化の概念とアルゴリズムを紹介します。また、光源マスク同時最適化 (SMO: Source Mask Optimization) の技術についても説明します。

光近接効果補正 (OPC) を教室で学ぶ
光近接効果補正 (OPC) を教室で学ぶ

カリキュラムパッケージのダウンロード

申し訳ありません。

ページの送信でエラーが発生しました。もう一度やり直してください。

お客様の情報を受け取りました。ありがとうございます。

初めてご登録される場合: 登録直後に送られる自動メールの中にある「電子メール・アドレスの確認」ボタンをクリックしてください。

この項目は必須です。 有効な電子メール・アドレスを入力してください。
この項目は必須です。 値が無効または長すぎます。
この項目は必須です。 値が無効または長すぎます。
この項目は必須です。 値が無効または長すぎます。
この項目は必須です。 値が無効または長すぎます。
この項目は必須です。 値が無効または長すぎます。
この項目は必須です。 有効な電話番号を入力してください。
この項目は必須です。 値が無効または長すぎます。

注意事項: このWebサイトで提供しているカリキュラムパッケージは、教育目的にのみダウンロードおよび使用が可能であり、商用利用はできません。この利用条件に違反した場合、アクセスが予告なしに直ちに停止されるなどの措置が講じられることがあります。

この項目は必須です。