革新的でコラボラティブ、かつ連携した新規プログラムの管理
Heavy Equipment
Construction, mining, and agricultural heavy equipment manufacturers striving for superior performance
Explore Industry中堅・中小企業
Remove barriers and grow while maintaining your bottom line. We’re democratizing the most robust digital twins for your small and medium businesses.
Explore IndustryTeamcenterを使用したPDMのカリキュラムパッケージ
Teamcenterを使用したPDMのカリキュラムパッケージ
光近接効果補正 (OPC) は、回折やプロセス効果による画像誤差を補正するために広く使用されているフォトリソグラフィ増強技術です。OPCは主に半導体デバイスの製造に使用される技術です。光波長限界のために、シリコンウェハ上のエッチチング形状が本来の設計形状を維持できなくなると、OPC処理が必要です。
このコースでは、OPC技術の歴史と現状、数値最適化の概念とアルゴリズムを紹介します。また、光源マスク同時最適化 (SMO: Source Mask Optimization) の技術についても説明します。
初めてご登録される場合: 登録直後に送られる自動メールの中にある「電子メール・アドレスの確認」ボタンをクリックしてください。