光近接効果補正
光近接効果補正 (OPC) は、回折やプロセス効果による画像誤差を補正するために広く使用されているフォトリソグラフィ増強技術です。OPCは主に半導体デバイスの製造に使用される技術です。光波長限界のために、シリコンウェハ上のエッチチング形状が本来の設計形状を維持できなくなると、OPC処理が必要です。
このコースでは、OPC技術の歴史と現状、数値最適化の概念とアルゴリズムを紹介します。また、光源マスク同時最適化 (SMO: Source Mask Optimization) の技術についても説明します。
光近接効果補正 (OPC) を教室で学ぶ