メンターは、GDSIIベースのマスク製造フローの主要課題を解決するIC製造ソリューションを提供しています。これらのソリューションは、ウエハの高い歩留まり維持、CD (Critical Dimension) の精密なコントロール、マスク製造期間の短縮、運用コストの削減、および先端プロセス開発のコストと時間の削減に貢献します。
IC製造
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メンターは、GDSIIベースのマスク製造フローの主要課題を解決するIC製造ソリューションを提供しています。これらのソリューションは、ウエハの高い歩留まり維持、CD (Critical Dimension) の精密なコントロール、マスク製造期間の短縮、運用コストの削減、および先端プロセス開発のコストと時間の削減に貢献します。
