Optical Proximity Correction

Optical proximity correction (OPC) is a photolithography enhancement technique commonly used to compensate for image errors due to diffraction or process effects. The need for OPC is seen mainly in the making of semiconductor devices and is due to the limitations of light to maintain the edge placement integrity of the original design, after processing, into the etched image on the silicon wafer.

This course will introduce the history and status quo of OPC technology, the numerical optimization concept and algorithm. It also covers Source Mask Optimization (SMO) technology.

Teach Optical Proximity Correction in your classroom.
Teach Optical Proximity Correction in your classroom.

Download the Curriculum Package:

We're Sorry!

There was an error with the page submission. Please try again.

Thank you, your information has been received.

First time signing up? Please be sure to confirm your opt-in with the email you'll receive shortly.

Dieses Feld ist erforderlich Es ist eine gültige E-Mail-Adresse erforderlich
Dieses Feld ist erforderlich Der eingegebene Wert ist ungültig oder zu lang
Dieses Feld ist erforderlich Der eingegebene Wert ist ungültig oder zu lang
Dieses Feld ist erforderlich Der eingegebene Wert ist ungültig oder zu lang
Dieses Feld ist erforderlich Der eingegebene Wert ist ungültig oder zu lang
Dieses Feld ist erforderlich Der eingegebene Wert ist ungültig oder zu lang
Dieses Feld ist erforderlich Bitte geben Sie eine gültige Telefonnummer an
Dieses Feld ist erforderlich Der eingegebene Wert ist ungültig oder zu lang

Notice: The curriculum package on this website may be downloaded and used for educational purposes only and not for commercial use. If you violate these terms and conditions, your access may be terminated immediately without notice, in addition to any other available remedies.

Dieses Feld ist erforderlich